国产28nm浸润式DUV光刻机突传好消息! ASML的好日子要到头了?

发布日期：2026-05-02 22:22 点击次数：53

光刻机这东西，说起来可能有点遥远，但它跟我们每个人的生活都息息相关。手机、电脑、汽车，里面的芯片全靠它才能造出来。

现在全球能造EUV光刻机的，只有荷兰ASML一家。这种机器专门用来生产7nm以下的高端芯片，别家根本造不出来。

而稍微低一档的浸润式DUV光刻机，全球也只有两家能造——ASML和日本的尼康。这种机器能覆盖65nm到7nm的芯片制造。

而咱们国家现在自己国产光刻机，还没达到浸润式这个水平。可咱们的芯片制造工艺呢？早就突破到7nm甚至更先进了。那这中间怎么补上？答案只有一个字：买。

过去几年，中国一直是ASML最大的客户。夸张到什么程度呢？有一段时间，咱们买光刻机的钱，占了ASML总营收的49%，将近一半！不是咱们想买，是实在没办法，自己不造出来，只能花大价钱从别人手里拿。

所以大家一直盼着，国产光刻机能争口气。不说一步登天搞出EUV，至少先把浸润式DUV拿下。只要这一关过了，局面就完全不一样了。

其实浸润式DUV没想象中那么神秘。它跟普通干式DUV最大的区别，就是在晶圆前面加了一层水。

光线经过水的折射，波长就从193nm缩短到134nm。就这么一个小变化，分辨率就上去了。咱们本来就有干式DUV的技术基础，光源、工作台、物镜这些核心部件很多都是通用的。说白了，突破浸润式就是捅破一层窗户纸的事儿。

最近有个消息传得挺热：上海微电子预计2026年要量产浸润式DUV光刻机了，型号叫SSA800系列。这台机器不用多重曝光，单次就能造出28nm芯片；如果配合多重曝光技术，甚至可以干到7nm甚至更先进。

还有传闻说，样机已经在晶圆厂做测试了，表现还不错，良率据说能到80%以上。当然，这个消息真假还没完全坐实，但今年量产的可能性，确实很大。

一旦国产浸润式光刻机真的量产了，那对ASML来说，可真就麻烦大了。除了最顶级的EUV还得进口，其他型号咱们基本可以自给自足了。

至于EUV，那确实没那么容易。但路总得一步一步走。从干式到浸润式，再到EUV，每一步都是积累。EUV也是人造出来的，又不是神造的，迟早有一天，咱们也能搞定。

其实去年日本媒体公布过一个全球半导体设备厂商的排名，上海微电子已经排到第20位了。这说明什么？说明咱们的光刻机实力，国际上也是认的。

一步一步来，总会到的。